LakH2Ove spray Ghiant 400 ml je rychlé spray gesso pro přípravu podkladů bez štětce. Nanáší jednotnou, matnou vrstvu pro akryl i olej. Zajistěte profesionální výchozí povrch během vteřin!
LakH2Ove spray Ghiant 400 ml je inovativní spray gesso určené k rychlé a rovnoměrné přípravě povrchů pro malbu i mixed media. Díky praktickému aerosolovému obalu můžete podklad připravit bez štětce a válečku během okamžiku, a to i na složitějších strukturách.
Na rozdíl od obyčejného gessa se spray gesso snadno dostane do všech zákoutí – ideální pro plátna, desky či papír z kategorie malířská plátna a papíry. Vytváří hladký, matný povrch s výbornou přilnavostí pro další vrstvy barev.
Spray gesso z řady LakH2Ove Ghiant je kompatibilní se všemi akrylovými barvami, strukturálními pastami i kombinovanými technikami. Pro zvýraznění textury doporučujeme kombinovat s Strukturálními pastami a gely pro plastické efekty a šablonování.
Při použití LakH2Ove spray Ghiant dosáhnete rovnoměrného krytí už jednou vrstvou. Jemné pigmenty v gessu zaručují, že podklad přilne k povrchu a neodlupuje se, čímž chrání vlákna plátna i papíru před nežádoucím pronikáním barev.
Aplikujte spray gesso ze vzdálenosti 20–30 cm a nechte schnout 15 minut. Díky vodou ředitelné receptuře vyčistíte zařízení i štětce pouhou vodou a mýdlem. Pro maximální komfort využijte také doplňky pro malbu.
Vyrobeno z kvalitní akrylové pryskyřice, LakH2Ove Ghiant zajišťuje dlouhodobou stálobarevnost a odolnost proti prachu. Vaše díla tak získají perfektní základ pro intenzivní barvy a struktury bez nežádoucích nerovností.
Tip z ateliéru: Pro extra hladký povrch nejprve lehce přetřete spray gesso suchým štětcem – vznikne sametově matná vrstva, která podbarví i jemné detaily.
Vaše hodnocení nelze odeslat
Nahlásit komentář
Zpráva odeslána
Váš podnět nelze odeslat
Napište svůj názor
Zkontrolovat před odesláním
Vaši recenzi nelze odeslat
LakH2Ove spray Ghiant 400 ml je rychlé spray gesso pro přípravu podkladů bez štětce. Nanáší jednotnou, matnou vrstvu pro akryl i olej. Zajistěte profesionální výchozí povrch během vteřin!